HiPace® 300，具有 TC 400，DN 100 ISO-K，普发涡轮分子泵

涡轮分子泵——真空泵中的领导者

真空技术的应用，使大量高科技产品走入人们的日常生活。事实上，在研发和工业领域的大量应用都需要极低的绝对压力，即高真空环境。得名于涡轮机系列产品，涡轮分子泵代表着全球领先的技术标准。转速高达 90,000 rpm 的高速转子能产生应用所需的压力条件，从而产生在高真空和超高真空范围内的高达 10-11 mbar 的真空度。

普发真空涡轮分子泵代表着安全的性能

现代涡轮分子泵能获得超过 400 米/每秒的圆周速度。这将转化为相应的高转子动能，当转子和定子相触，动能将在瞬间传输到外壳和泵的底座上。因此，泵外壳的稳定性具有至关重要的作用，需经过理论和实际的双重检验。普发真空的涡轮分子泵已通过UL 61010和/或Semi S2认证。除机械安全性能外，该认证同时也包括了防火和转速过高的双重保护，这向认证是由普发真空与TÜV Rheinland共同开创的。

优化客户利益

真空对于整个生产流程成功与否往往起着决定性作用。一旦出现缺陷批次或者生产失败，根据用途不同，造成的损失高达数百万欧元。因此，所有安装部件具有较高可靠性变得越来越重要。如今，涡轮泵的工作时间常高达十万小时以上。在这段时间内，应尽可能减少由于维护或服务作业而造成的计划内中断。该泵具有可以在现场更换轴承或机油的特点。结合该特点，使其具有极高的可用性。涡轮内置有集成驱动电子设备，从而显著降低了电缆支出。较先进的驱动技术将能耗降至较低，控制方案也多种多样。符合防护等级 IP 54 的结构使该泵特别适合于工业用途。结构形式紧凑，即使在狭窄空间，依然可以安装使用。为了保持低成本，可以为同一尺寸的泵选择不同的驱动电子设备 可以为同一尺寸的泵选择不同的驱动电子设备。重量方面也在持续改进：一台抽速达 250 l/s 的涡轮泵，其重量仅为 6 kg。普发真空涡轮泵广泛的应用领域不仅涵盖分析仪器、真空处理和半导体技术，还包括涂层、科研和工业用途。

应用

在很多产品制造和工艺研究领域中，真空技术发挥着决定性的作用。涡轮分子泵对于制造极纯工艺条件具有至关重要的作用。
 

应用范围覆盖多个领域：

分析仪器（质谱分析法、显微镜等）

半导体行业（电子组件、集成电路、太阳能电池等）

光学/玻璃行业（隔热保护、防反射、反射、滤光镜镀膜等）

真空镀膜技术*（表面保护、装饰土层、显示技术、屏幕等）

真空冶金（真空焊接、真空烧结、真空合金、真空炉等）

泄漏检测（真空系统、机车燃料箱、安全气囊、真空包装行业）

科研设施（核粒子物理学、核聚变研究、激光应用等）

灯具行业（灯具生产等）

HiPace® 300

具有 260 l/s 对于 N2 抽吸能力的紧凑、高性能涡轮泵

产品描述

配有不同驱动电子系统

防护类型 IP54 适合于工业用途

准 S2 和 UL/CSA 认证

紧凑结构的较高可靠性

运行数据监控形成的较高运行安全性

涡轮分子泵入门套件

易于安装、快速应用和运行

较佳匹配的组件，真正的“即插即用”

标准

对于所有气体的高抽吸能力和极高压缩

适合所有标准应用

高密封性

压缩能力极强，极适用于轻气体

适用于生成超高真空

方法

工艺过程适宜，耐灰尘

理想适用于涂层及半导体工艺以及诸如电子束焊接装置等易受灰尘影响的工业应用

Plus

适用于高要求分析设备、例如电子显微镜

极微振动

杂散磁场低

HiPace® 300，具有 TC 400，DN 100 ISO-K

理想用于分析和工业应用

用于在所有情况下的安装

带有集成型水冷系统以保证较大气体流量

通过使用较多 4 个配件实现使用多样性

理想适用于快速循环

广泛的配件扩展使用范围

具有较高 260 l/s 对于 N2 抽吸能力的坚固、高性能涡轮泵

集成型驱动电子设备 TC 400